光催化降解是一种借助光催化剂的光化学反应过程，在这一过程中，通常使用半导体来吸收光并加速光反应速率。光催化被用于许多应用，如去除污染物和细菌、能量转换和绿色制氢的水裂解技术。理想的光催化剂应该能够在室温下吸收光，无毒性且对光腐蚀有很高的稳定性。由于灯盘与反应器均可个性化配置和更换， 可以适用于不同波段的光催化研究工作，能够成为许多专业研究测试数据前的前置测试手段。
光催化降解的原理一般有两种*的光降解机制，即单重态氧诱导氧化和自由基引发氧化。
单线态氧的氧化机理：
涉及单线态氧与聚合物的直接反应。单线态氧是由于合适的光敏剂(3S)的激发三重态猝灭而产生的。
自由基的氧化机理：
包括产生与氧反应的自由基。紫外线辐射中的高能量会破坏聚合物中的C-C和C-H键，从而产生自由基。然后自由基与氧反应生成羟基(O-H)和羰基(C=O)。该机制包括三个主要步骤，即引发、传播和终止。
光催化降解装置使用注意事项：
仪器避免设备受到阳光照射及靠近空调冷气排风口；
载气钢瓶余气需要超过2Mpa；
载气输出压力为0.4～0.5MPa，压缩空气分压需在0.4MPa左右，反应气分压压力要和实验压力一致；
反应釜的定位柱一定要和釜盖的定位孔对齐安装，不然会漏气；
多功能光化学反应仪使用过程中禁止开盖。
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